Reactive Ion Etching System
Reactive Ion Etching System /等離子圖案成型設備 [崇文科技，Nasca-20]
技術人員 黃慧瑜 小姐 (05)2720411 轉 23355
E-mail : s22131922@gmail.com
指導教授 謝文馨 博士 (05)2720411 轉 33314
E-mail : imewhh@ccu.edu.tw
儀器概述
本儀器是崇文科技公司之反應式離子蝕刻系統，藉由射頻電源產生電漿進行非等向性蝕刻，可針對高分子及矽質基板進行蝕刻，本系統最大可放置五吋以下基板，使用氣體有O2、N2、CF4、SF6、Ar。
服務項目
高分子及矽質基板蝕刻成型。
取樣應注意事項
基板不得為揮發物質、粉體、金屬，其他不確定物質請詢問操作人員。
預約注意事項
首次使用本儀器，請於預約前與技術人員接洽。
放置地點
機械實習工廠310室。