Reactive Ion Etching System /等離子圖案成型設備 [崇文科技，Nasca-20]

技術人員 黃小姐 (05)2720411 轉 23355

E-mail : s22131922@gmail.com

指導教授 謝文馨 博士   (05)2720411 轉 33314

E-mail : imewhh@ccu.edu.tw

儀器概述

本儀器是崇文科技公司之反應式離子蝕刻系統，藉由射頻電源產生電漿進行非等向性蝕刻，可針對高分子及矽質基板進行蝕刻，本系統最大可放置五吋以下基板，使用氣體有O₂、N₂、CF₄、SF₆、Ar。

 

服務項目

高分子及矽質基板蝕刻成型。

 

 

 取樣應注意事項

基板不得為揮發物質、粉體、金屬，其他不確定物質請詢問操作人員。

 

預約注意事項

首次使用本儀器，請於預約前與技術人員接洽。

 

放置地點

機械實習工廠310室。