Reactive Ion Etching System /等離子圖案成型設備 [崇文科技,Nasca-20]

技術人員 林君翰 先生   (05)2720411 23340

E-mail : hank111222@gmail.com

技術人員 黃柏鈞 先生   (05)2720411 23340

E-mail : a0963059878@gmail.com

指導教授 謝文馨 博士   (05)2720411 33314

E-mail : imewhh@ccu.edu.tw

儀器概述

本儀器是崇文科技公司之反應式離子蝕刻系統,藉由射頻電源產生電漿進行非等向性蝕刻,可針對高分子及矽質基板進行蝕刻,本系統最大可放置五吋以下基板,使用氣體有O2N2CF4SF6Ar

 

服務項目

高分子及矽質基板蝕刻成型。

 

 

 取樣應注意事項

基板不得為揮發物質、粉體、金屬,其他不確定物質請詢問操作人員。

 

預約注意事項

首次使用本儀器,請於預約前與技術人員接洽。

 

放置地點

機械實習工廠310室。